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Dortmunder MST-Seminar

»Übertragung von Nanostrukturen durch Replikationstechniken in Kunststoffe und Metalle«

Tandemvortrag von:
Prof. Dr. Andreas Neyer, TU Dortmund
Dr. Michael Kahl, Raith GmbH, Dortmund

Die Reduzierung der Strukturdimensionen in optischen und fluidischen Bauelementen vom Mikro- in den Nanometer-Maßstab erschließt eine Fülle von neuen Funktionen, die bisher erst an wenigen Beispielen demonstriert werden konnten. Ein Beispiel sind Nanosiebe, welche die Möglichkeit bieten, Bakterien aus frischer Milch herauszufiltern und sie so – ohne Erhitzung – zu sterilisieren. Dadurch behält die Milch ihren vollen Nährstoffgehalt und macht sie – verglichen mit der herkömmlichen thermischen Sterilisation – zu einem wertvolleren Lebensmittel.

Grundlage einer wirtschaftlichen Produktion von nanostrukturierten Komponenten bildet die Replikationstechnik mit den Technologieschritten:
1. Herstellung einer nanostrukturierten Urform mit Hilfe der Elektronenstrahllithographie,
2. Übertragung / Replikation der Urform in Kunststoff durch Nanoimprint und
3. Galvanoformung in Metall, vorzugsweise Nickel.

Im Vortrag werden die drei Technologieschritte mit Beispielen erläutert, wobei einer der Schwerpunkte die Nanostrukturerzeugung durch Elektronenstrahllithographie sein wird.

        

Bild 1:  Lens Array                                  Bild 2: Nanosieb

Prof. Neyer studierte an der Universität Dortmund Physik und promovierte an der FernUniversität Hagen im Fachbereich Elektrotechnik auf dem Gebiet der Integrierten Optik. Seit 1994 leitet er das Arbeitsgebiet Mikrostrukturtechnik an der Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik der Technischen Universität Dortmund. Sein Forschungsschwerpunkt sind Herstellungstechnologien von Mikro- und Nanokomponenten aus polymeren Werkstoffen mit Hilfe von Replikationsverfahren.

Dr. Kahl studierte an der Universität Dortmund Physik und promovierte im Anschluss dort im Fachbereich Elektrotechnik. Seit 2000 unterstützt er Kunden der Raith GmbH bei ihren Anwendungen im Bereich Elektronenstrahllithografie, zurzeit als Leiter der Applikationsabteilung.

Einladung und Anmeldung finden Sie hier .



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